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小型等離子去膠機廠(chǎng)家

簡(jiǎn)要描述：小型等離子去膠機廠(chǎng)家的這款產(chǎn)品使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進(jìn)行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實(shí)現嚴格的質(zhì)量控制。內置雙層氣浴電極，有效提高清洗效率。配有節流閥，防止真空泵油霧回流。

  • 產(chǎn)品型號：PLUTO-MD(8L)
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間：2024-07-09
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：3041

詳細介紹

等離子去膠機

          PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機介紹：
 
　　去膠工藝是微加工過(guò)程中一個(gè)重要的過(guò)程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問(wèn)題，將直接影響后續工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進(jìn)行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實(shí)現嚴格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

等離子去膠機

 

等離子去膠機

 
　　PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機特點(diǎn)：
 
　　1. 桌面型，普通實(shí)驗臺即可安置。操作簡(jiǎn)便上手快、使用成本極低、易于維護。
 
　　2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠，可選配硅片專(zhuān)用托盤(pán)。
 
　　3.內置雙層氣浴電極，有效提高清洗效率。配有節流閥，防止真空泵油霧回流?？蛇x配耐用電極，降低長(cháng)時(shí)間使用后的腔體污染。
 
　　4.配置200W/13.56MHz等離子發(fā)生器。兼顧物理作用和化學(xué)作用。
 
　　5.具備前后吹掃功能，保證樣品處理潔凈度，可配置獨立吹掃氣路。
 
　　6.可選配電極間距可調，對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和表面改性。
 
等離子去膠機

           PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機參數：
 
等離子去膠機參數

           
        小型等離子去膠機應用： 
等離子去膠機
 

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