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國產(chǎn)等離子刻蝕機

簡(jiǎn)要描述：PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機是針對于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng )新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng )新型實(shí)驗平臺。針對用戶(hù)不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規性能的同時(shí)，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學(xué)反應，粉體等離子體處理等多種能力。

  • 產(chǎn)品型號：PLUTO-MH
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間：2024-07-09
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：3459

詳細介紹

國產(chǎn)等離子刻蝕機

 

　　PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機特點(diǎn)：
 
　　1.針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場(chǎng)合中使用
 
　　2.等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，兼顧物理反應和化學(xué)反應
 
　　3.采用500W功率電源，自動(dòng)阻抗匹配，高功率射頻發(fā)生器可應對各種實(shí)驗要求，保障高能量密度和高處理效率
 
　　4.高精度真空度控制，適應各種處理需求
 
　　5.316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金)，全不銹鋼管路和連接件，適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)
 
　　6.4.3寸工業(yè)級觸摸屏，軟件操作方便，多種參數設置和工藝組合處理模式
 
　　7.可增加多種配件，涂覆鍍膜，電極溫度控制，等離子體強度控制，等離子體化學(xué)反應等功能(如有特殊應用，請咨詢(xún)銷(xiāo)售人員)
 
　　8.根據用戶(hù)需求，提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設備
 
　　PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機參數:
 
　　真空腔規格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
 
　　電極：兩個(gè)自適應平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無(wú)孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)
 
　　電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(可反轉)
 
　　等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz
 
　　功率：0-500W連續可調，自動(dòng)阻抗匹配,精度1W
 
　　氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
 
　　控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
 
　　控制軟件功能：界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài)，
 
　　可顯示設置值與實(shí)際值，便于實(shí)時(shí)控制。
 
　　可自由設置等離子功率，通入氣體時(shí)間
 
　　多級操作權限,多種工藝參數組合控制,
 
　　全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選
 
　　保護裝置：一鍵急停保護按鈕
 
　　(如需其他功能,請咨詢(xún)銷(xiāo)售人員)
 
國產(chǎn)等離子刻蝕機

          PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機應用領(lǐng)域:
 
　　配置不同模塊，拓展不同應用
 
　　加熱電極模塊-溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
 
　　沉積鍍膜模塊，改變表面特性：
 
　　沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性
 
　　沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性
 
　　沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果
 
　　感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置
 
　　氣體混合裝置
 
　　可以根據可以要求進(jìn)行混氣設計
 
　　氣體純化和反應
 
　　氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應
 

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